Một vài đ i đặc đi c điểm của các hạt nhỏvật liệu bia phún xạ
Trư Trước hết, các hạt nhỏvật liệu bia bị phún xạra ngoài bia trung hòa về đi điện
tích, nên chuyển đ n động của chúng không phụthuộc chi c chiều đi u điện trư n trường mà
được quyết đ t định bởi các va chạm với các ion Ar
+
.
Năng lư Năng lượng liên kết của các nguyên tửhạt vật liệu bia phụthuộc vào nhiều
yếu tốnhưc nhưcác thông sốcủa các ion Ar tham gia va chạm, đ định hư nh hướngtinh ngtinh
thể, v.v…Ví dụ, giátrị đ đối với vật liệu Gekhi d u Gekhi dùng các ion Ar
+
có đ động năng ng năng
1.2 KeV làvào khoảng ~15 eV. ng ~15 eV.
Do có đ động năng l ng năng lớn nên các hạt nhỏvật liệu bia cóthểgây ra các hiệu ứng
phụnhưnhi nhưnhiễm bẩn thứcấp, v.v…
28 trang |
Chia sẻ: ttlbattu | Lượt xem: 2573 | Lượt tải: 3
Bạn đang xem trước 20 trang tài liệu Bài giảng phún xạ, để xem tài liệu hoàn chỉnh bạn click vào nút DOWNLOAD ở trên
Phún xạ
Lê Tuấn
Đại học Bách khoa Hà Nội
Sim
po PDF M
erge and Split Unregistered Version -
popdf.com
22/2/2006 Đại học Bách khoa Hà Nội
Phún xạ (tiếp)
Sơ đồ hệ thống thiết bị phún xạ
Bia
Nước
làm lạnh
Mâm đỡ
bằng Cu Nguyên tử
phún xạ
Nguyên tử
Ar nhanh
Đế bán dẫn
Nguyên tử
phún xạ
ngược
Súng ion
Plasma Ar
Sim
po PDF M
erge and Split Unregistered Version -
popdf.com
32/2/2006 Đại học Bách khoa Hà Nội
Phún xạ (tiếp)
Sơ đồ bố trí các bộ phận thiết bị phún xạ
Khí
vào
Bơm chân
không
Nguồn
điện BiaPhiến
bán dẫn
Đế
Sim
po PDF M
erge and Split Unregistered Version -
popdf.com
42/2/2006 Đại học Bách khoa Hà Nội
Phún xạ (tiếp)
Cơ chế thực hiện quá trình phún xạ
Sim
po PDF M
erge and Split Unregistered Version -
popdf.com
52/2/2006 Đại học Bách khoa Hà Nội
Cơ chế thực hiện quá trình phún xạ (tiếp)
Phún xạ (tiếp)
1. Nguyên tử khí Ar bị phân ly do ion hóa
Ar → Ar+ + e-
2. Điện tử được tăng tốc nhờ điện trường.
Trong quá trình chuyến động tới anode,
trên đường đi, chúng tiếp tục gây ra các
phân ly nguyên tử Ar mới.
3. Các ion được tăng tốc cũng bởi điện
trường và chuyển động tới cực âm, va
chạm với vật liệu bia, làm bắn ra các hạt
vật liệu bia và các điện tử thứ cấp. Các
hạt vật liệu bia bị phún xạ ra khi được
đưa tới bề mặt các phiến đế sẽ lắng
đọng và tạo ra màng mỏng trên đó, còn
các điện tử thứ cấp khi đi tới anode góp
phần tăng cường quá trình ion hóa các
nguyên tử Ar.
Cột
plasma
Sim
po PDF M
erge and Split Unregistered Version -
popdf.com
62/2/2006 Đại học Bách khoa Hà Nội
Phún xạ (tiếp)
Một vài đặc điểm của các hạt nhỏ vật liệu bia phún xạ
Trước hết, các hạt nhỏ vật liệu bia bị phún xạ ra ngoài bia trung hòa về điện
tích, nên chuyển động của chúng không phụ thuộc chiều điện trường mà
được quyết định bởi các va chạm với các ion Ar+.
Năng lượng liên kết của các nguyên tử hạt vật liệu bia phụ thuộc vào nhiều
yếu tố như các thông số của các ion Ar tham gia va chạm, định hướng tinh
thể, v.v… Ví dụ, giá trị đối với vật liệu Ge khi dùng các ion Ar+ có động năng
1.2 KeV là vào khoảng ~ 15 eV.
Do có động năng lớn nên các hạt nhỏ vật liệu bia có thể gây ra các hiệu ứng
phụ như nhiễm bẩn thứ cấp, v.v…
Sim
po PDF M
erge and Split Unregistered Version -
popdf.com
72/2/2006 Đại học Bách khoa Hà Nội
Phún xạ (tiếp)
Các phản ứng do va chạm với điện tử
Ion hóa phân ly phân tử:
AB + e-→A++ B +2e-
Phân ly
AB + e-→A + B + e-
Phân ly kèm theo gắn kết
điện tử
AB + e- → A + B-
Sim
po PDF M
erge and Split Unregistered Version -
popdf.com
82/2/2006 Đại học Bách khoa Hà Nội
Cơ chế và hiệu suất phún xạ của các vật liệu đơn chất
Phún xạ (tiếp)
Hiệu suất phún xạ S =
Số ion bứt ra/số ion bắn phá
Sim
po PDF M
erge and Split Unregistered Version -
popdf.com
92/2/2006 Đại học Bách khoa Hà Nội
Phún xạ (tiếp)
Các hợp chất vật liệu bia có thể được dùng để tạo màng
trên phiến đế
Ở điều kiện tương quan tốc độ A = 0.8 B
Vật liệu đế
A5B5
A5B4
A5B4
.
Vật liệu màng mỏng
A4B5
A4B4
A4B4
Sim
po PDF M
erge and Split Unregistered Version -
popdf.com
102/2/2006 Đại học Bách khoa Hà Nội
Hệ thống phóng điện có hai
bản cực song song cho phún
xạ một chiều
Phún xạ (tiếp)
Các thông số công nghệ thường dùng:
• Chân không: 10-7 torr
• Áp suất hơi Ar: 20 – 100 mtorr
• Điện áp: 2 – 5 kV
Sim
po PDF M
erge and Split Unregistered Version -
popdf.com
112/2/2006 Đại học Bách khoa Hà Nội
Phún xạ (tiếp)
Hệ thống phóng điện cải tiến cho phún xạ
Các thông số công nghệ
thường dùng:
Chân không: 10-7 torr
Áp suất hơi Ar: 1 – 5 mtorr
Điện áp: 500 – 1000 V
(một chiều hay xoay chiều
tần số radio)
Sim
po PDF M
erge and Split Unregistered Version -
popdf.com
122/2/2006 Đại học Bách khoa Hà Nội
Phún xạ (tiếp)
Phún xạ hóa học
Trong quá trình phún xạ, một hay nhiều thành phần của vật liệu
màng mỏng phún xạ tồn tại dưới dạng các ion/tổ hợp mang điện và
được vận chuyển bởi điện trường. Tại không gian gần/tại bề mặt đế,
các thành phần đó tham gia phản ứng hóa học với các thành phần
khác sẵn có hay cũng được vận chuyển tới để tạo thành vật liệu cuối
cùng và lắng đọng trên bề mặt đế.
Cần để ý tới hiện tượng ăn mòn (rỉ) do môi trường khí.
Sim
po PDF M
erge and Split Unregistered Version -
popdf.com
132/2/2006 Đại học Bách khoa Hà Nội
Phún xạ (tiếp)
Phún xạ một chiều (DC) và xoay chiều tần số radio (RF)
Sim
po PDF M
erge and Split Unregistered Version -
popdf.com
142/2/2006 Đại học Bách khoa Hà Nội
Phún xạ (tiếp)
Phún xạ dùng súng magnetron
Sim
po PDF M
erge and Split Unregistered Version -
popdf.com
152/2/2006 Đại học Bách khoa Hà Nội
Phún xạ (tiếp)
Súng magnetron thương mại
Sim
po PDF M
erge and Split Unregistered Version -
popdf.com
162/2/2006 Đại học Bách khoa Hà Nội
Phún xạ (tiếp)
Magnetron công nghiệp dạng tròn (trái) và phẳng (phải)
Sim
po PDF M
erge and Split Unregistered Version -
popdf.com
172/2/2006 Đại học Bách khoa Hà Nội
Phún xạ (tiếp)
Chuyển động của các điện tử trong súng magnetron
Sim
po PDF M
erge and Split Unregistered Version -
popdf.com
182/2/2006 Đại học Bách khoa Hà Nội
Phún xạ (tiếp)
Đường sức từ trường
Sim
po PDF M
erge and Split Unregistered Version -
popdf.com
192/2/2006 Đại học Bách khoa Hà Nội
Phún xạ (tiếp)
Cơ chế của sự rỉ (ăn mòn) bia
Sim
po PDF M
erge and Split Unregistered Version -
popdf.com
202/2/2006 Đại học Bách khoa Hà Nội
Phún xạ (tiếp)
Cải thiện việc sử
dụng bia
Sim
po PDF M
erge and Split Unregistered Version -
popdf.com
212/2/2006 Đại học Bách khoa Hà Nội
Phún xạ (tiếp)
Cải thiện việc sử dụng bia nhờ thay đổi hình dạng các nam
châm (tiếp)
Sim
po PDF M
erge and Split Unregistered Version -
popdf.com
222/2/2006 Đại học Bách khoa Hà Nội
Phún xạ (tiếp)
Magnetron không cân bằng
Sim
po PDF M
erge and Split Unregistered Version -
popdf.com
232/2/2006 Đại học Bách khoa Hà Nội
Các loại magnetron
Phún xạ (tiếp)
Magnetron các loại khác nhau cho phép thay đổi các tính chất từ trường của nguồn
với các hiệu ứng được tạo ra như sau:
Unbalance (Không cân bằng): Bằng cách thay đổi góc ra của các đường sức từ
trường trong các magnetron không cân bằng có thể điều chỉnh số lượng điện tử được
thoát ra, do đó, cả mức độ bắn phá ion đối với màng mỏng được tạo thành.
Balance (Cân bằng): Dùng để giảm thiểu lượng năng lượng bổ sung cho màng mỏng
mọc trên đế và tạo ra điều kiện bắn phá ion thấp.
Field Strength (Cường độ từ trường): Thay đổi cường độ từ trường để điều chỉnh
cường độ và hiệu điện thế phóng điện. Có thể sử dụng để bù trừ với thay đổi điện áp
gây ra bởi hiện tượng ăn mòn bia trong quá trình phún xạ.
Magnetic Field Shape (Phân bố từ trường): Thay đổi phân bố từ trường trong không
gian gây ra sự biến đổi tương tác giữa plasma với anode nhằm điều chỉnh áp suất làm
việc cực tiểu.
Sim
po PDF M
erge and Split Unregistered Version -
popdf.com
242/2/2006 Đại học Bách khoa Hà Nội
Cơ chế lấp đầy các rãnh, bước trong màng mỏng phún xạ
Phún xạ (tiếp)
Năng lượng của các nguyên tử tới bề mặt
màng ~ 1 – 15 eV.
Các nguyên tử vật liệu màng bị bứt ra do
quá trình bắn phá bởi các ion Ar+ sẽ lại tái
lắng đọng sau khi truyền bớt động năng cho
các nguyên tử khác trong màng và tìm được
vị trí có lợi về mặt năng lượng.
Quãng đường tự do trung bình của các
nguyên tử tới được tính theo công thức thực
nghiệm:
L (cm) = 5x10-3/P (torr)
Sim
po PDF M
erge and Split Unregistered Version -
popdf.com
252/2/2006 Đại học Bách khoa Hà Nội
Vi cấu trúc của các màng mỏng phún xạ
Phún xạ (tiếp)
Sim
po PDF M
erge and Split Unregistered Version -
popdf.com
262/2/2006 Đại học Bách khoa Hà Nội
Thiết bị phún xạ trong công nghiệp
Phún xạ (tiếp)
Sim
po PDF M
erge and Split Unregistered Version -
popdf.com
272/2/2006 Đại học Bách khoa Hà Nội
Phún xạ (tiếp)
Các ưu điểm của phương pháp phún xạ
Tốc độ mọc màng cao
Diện tích của màng mỏng lớn, với độ đồng đều cao
Có tính bám dính tốt giữa các vật liệu màng mỏng và đế
nên có thể thay đổi ứng suất trong màng mỏng
Có thể tạo màng phún xạ kim loại, điện môi hay bán dẫn
Có thể tạo màng phún xạ với các vật liệu hợp chất thích hợp
Sim
po PDF M
erge and Split Unregistered Version -
popdf.com
282/2/2006 Đại học Bách khoa Hà Nội
Cám ơn đã theo dõi !!!
Mọi góp ý, bổ sung xin gửi đến:
Dr. Le Tuan
Hanoi University of Technology
Institute of Engineering Physics
Dept. of Electronic Materials
2nd Floor, C9 Building
1 Dai Co Viet Str., Hanoi, Vietnam
Mobile: 0912 560 536
E-mail: le.tuan@vnn.vn
Sim
po PDF M
erge and Split Unregistered Version -
popdf.com